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- 名称：氧化镁(Mg0)
详情：
氧化镁（Mg0）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgF2单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2"及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
详细参数
主要性能参数
生长方法
弧熔法
晶体结构
立方
晶格常数
a=4.130 Å
熔点（℃）
2800
纯度
99.95%
密度（g/cm3）
3.58
硬度
5.5（mohs）
热膨胀系数（/℃）
晶体解理面
<100>
光学透过
>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）
介电常数
ε= 9.65
热导率（卡／度 厘米 秒）
0.14 300°K
尺寸
10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，
dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm
厚度
0.5mm，1.0mm
抛光
单面或双面
晶向
<001>±0.5º
晶面定向精度:
±0.5°
边缘定向精度:
2°（特殊要求可达1°以内）
斜切晶片
可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片
Ra:
≤5Å（5µm×5µm）
主要特点
由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
主要用途
用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
包装
100级洁净袋，1000级超净室
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