| 主要性能参数 | 
						
							| 生长方法 | 水热法 | 
						
							| 晶体结构 | 六方 | 
						
							| 晶格常数 | a=4.914Å    c=5.405 Å | 
						
							| 熔点(℃) | 1610℃(相转变点:573.1℃) | 
						
							| 密度 | 2.684g/cm3 | 
						
							| 硬度 | 7(mohs) | 
						
							| 热熔 | 0.18cal/gm | 
						
							| 热导率 | 0.0033cal/cm℃ | 
						
							| 热电常数 | 1200uv/℃(300℃) | 
						
							| 折射率 | 1.544 | 
						
							| 热膨胀系数 | α11:13.71×106/ ℃ α33:7.48×106 /℃ | 
						
							| Q值 | 1.8×106 min | 
						
							| 声速、声表级 | 3160(m/sec) | 
						
							| 频率常数 | 1661(kHz/mm) | 
						
							| 压电偶合 | K2(%) BAW: 0.65 SAW: 0.14 | 
						
							| 晶向 | Y、X或Z切,在30º~42.75 º ±5分范围内旋转任意值 主定位边:根据客户要求定方向±30分
 次定位边:根据客户要求定方向
 籽 晶:位于中心,宽度<5mm,高度>66mm
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							| 抛光面 | 外延抛光:单抛或双抛Ra<10Å 工作区域:基片直径-3mm
 弯 曲 度:Φ3″<20um,Φ4″<30um
 工作区域无崩边,在边缘,崩边宽度<0.5mm
 坑和划痕:每片<3,每100片<20
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							| 标准厚度 | 0.5mm±0.05mm TTV<5um | 
						
							| 标准直径 | Φ2″(50.8mm)、Φ3″(76.2mm)、Φ4″(100mm)±0.2mm 主定位边:22±1.5mm (Φ3″) 32±3.0 (Φ4″)
 次定位边:10mm±1.5mm
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