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光学薄膜技术在激光保护片上的应用

发表日期:2015-01-02 发布者:厦门益唯特玻璃有限公司 [返回]

  1、薄膜应力研究的重要性

      光学多层膜系统已经广泛的应用于微电子系统,激光保护片,光学系统等,而由于薄膜应力的存在,对系统的功能与可靠性产生很大的影响,它不仅会直接导致薄膜的龟裂、脱落,使薄膜损坏,而且会作用基体,使基体发生形变,从而使通过薄膜元件的光波前发生畸变,影响传输特性。更重要的是,薄膜在激光辐照下,由于应力的存在,加速了薄膜内热力耦合作用,是其破坏的敏感因素,因此很有必要研究光学多层膜系统中的残余应力,并设法控制其发展。


      2、激光保护片中薄膜应力的成因

      薄膜应力主要包括热应力与生长应力:热应力是当薄膜从沉积温度冷却到室温的过程中,由于薄膜与基底的热膨胀系数不同引起的;生长应力存在于所有镀膜方法(如真空蒸发、阴极溅射或气相沉积)制作的薄膜中,其最大值可达109N/m2。它的大小与由薄膜和基底材料以及制备工艺条件有关。

      3、光学薄膜缺陷的特点

      薄膜缺陷的研究大约从1970开始,刚开始薄膜缺陷被表征为薄膜表面特征,认为是一种典型的粗糙度,在一些文献中薄膜缺陷被描述为节瘤。 Guenther首先对光学薄膜缺陷进行研究,他指出节瘤是在镀膜过程中对外部干扰颗粒形状相似复制而形成的;现在薄膜缺陷越来越引起人们的重视,很多文献建立了薄膜节瘤缺陷模型,其中Lettsl第一次提出了节瘤缺陷形成的经验模型,另外,Kardar提出了一种薄膜生长的非线性连续模型,Tren通过对HfO2/SiO2多层膜缺陷一系列的研究,认为当节瘤颗粒非常小时,节瘤生长模型是无效的,但是同时认为当节瘤颗粒非常大时,由于屏蔽效应会产生更加复杂的缺陷结构。

      薄膜缺陷类型很多,按照缺陷的性质,可以分为杂质缺陷、电致缺陷、结构缺陷、化学缺陷、力学缺陷以及热缺陷等等;按照缺陷的形貌来分,大致有结瘤缺陷、陷穴缺陷、条状缺陷及其它形状不规则的复杂缺陷。一般来说,缺陷的类型、密度、大小随膜层材料,沉积工艺以及表面清洁度的不同而不同。对激光薄膜来说,根据实验观察,主要有节瘤与陷穴缺陷。

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