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光学冷加工中磨料的选取在浮法抛光的去除机理

发表日期:2015-04-30 发布者:厦门益唯特玻璃有限公司 [返回]

光学冷加工中磨料的选取在浮法抛光的去除机理  


      浮法抛光表面粗糙度可达到亚纳米量级,接近原子尺寸,工件材料的去除是原子水平上进行的。工件表面原子在磨料微粒的撞击作用下脱离工件主体,从而被去除。原子的去除过程,是磨料与工件在原子水平的碰撞、扩散、填补过程。  


    根据去除机理,利用外表面层与主体原子结合能的差异,任何材料都可作为磨料去除工件表层原子,可以获得无晶格错位与畸变的表面。


    在进行浮法超光滑表面的抛光中,选择合适的材料作为磨料很重要。一般用于浮法抛光的磨料为粒度约7nm的SiO2微粉。    

 

    综上所述,浮法抛光技术的关键在于:

        高面形精度的锡盘,以此来保证工件面形的高精度。    

        粒度小于20nm的磨料,目的在于增大工件与磨盘的接触面积,增多磨料颗粒与工件表面的碰撞机会,达到原子量级去除的目的。    

        抛光液将工件和磨盘浸没,靠流体作用形成工件与磨盘间液膜,为磨料颗粒与工件的碰撞提供环境。

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