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半精抛工艺在抛光程序的取决了机械光学镜片的抛光过程

发表日期:2015-09-05 发布者:厦门益唯特玻璃有限公司 [返回]

使指定波段的光线在膜层上大部分或接近全部反射出去,在图纸上用符号  和  表示。根据膜层材料,可分为两类:金属反射镜和电介质反射镜。模具要想获得高质量的抛光效果,最重要的是要具备有高质量的油石、砂纸和钻石研磨膏等抛光工具和辅助品。光学玻璃的抛光程序的选择取决于前期加工后的表面状况,如机械加工、电火花加工,磨加工等等。机械抛光的一般过程如下:  


厦门益唯特专业生产光学玻璃

    
(1)粗抛 经铣、电火花、磨等工艺后的表面可以选择转速在35 000—40 000 rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。常用的方法有利用直径Φ3mm、WA # 400的轮子去除白色电火花层。然后是手工油石研磨,条状油石加煤油作为润滑剂或冷却剂。一般的使用顺序为#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。许多模具制造商为了节约时间而选择从#400开始。  同时提高抛光速率近2倍;并提高玻璃抛光表面的粗糙度及“亮度”。抛光下盘以后,可存放数天或10多天时间,便于零件运转和下道工序加工。 
  
(2)半精抛 半精抛主要使用砂纸和煤油。砂纸的号数依次为:#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。实际上#1500砂纸只用适于淬硬的模具钢(52HRC以上),而不适用于预硬钢,厦门益唯特光学玻璃认为因为这样可能会导致预硬钢件表面烧伤。因为硅胶易溶于碱性溶液,在碱性溶液中就能较稳定的形成胶体状态。但硅胶不易溶于酸性溶液,这使硅酸胶体虽结成大颗粒沉淀,这样无疑是对抛光不利的。所以抛光液的pH值高时,则硅胶稳定,不利于抛光。   
    

(3)精抛 精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨膏进行研磨的话,则通常的研磨顺序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm光学冷加工生产操作9μm的钻石研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研磨膏进行抛光,顺序为1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。而要改变光学玻璃组成结构,以改善其物理化学性能,势必影响其光学性能,这就失去采用此类玻璃的实际意义了。


厦门益唯特光学玻璃认为,对于圆形的光学零件,精磨抛光完工之后一般都还要进行磨边,使其侧圆柱面尺寸满足装配要求;对于球面透镜,磨边还有一个重要作用:就是校正透镜在研磨抛光过程中很难完全避免的偏心,即校正两球心连线(光轴)与外圆对称轴(几何袖)的偏离。


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